메타코어

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상상을 현실로,
혁신을 설계하는
메타코어

독보적인 기술로
미래
가치를 함께 완성합니다.

㈜메타코어는 진공 증착 분야에서 정밀한 공정, 유연한 장비,
고객 맞춤형 솔루션을 기반으로 혁신을 이어가고 있습니다.

창의적이고 차별화된 기술력으로 고객사의 미래를 설계하며,
독보적인 자동화 설계와 증착 노하우로 새로운 가치를 만들어갑니다.

Business

진공 기반의
정밀 증착 기술을 통해
글로벌 산업 경쟁력을
강화합니다.

01

Semiconductor

  • Wafer PVD
  • 3D shape sputtering
  • Ultra speed reactive sputtering

고도화된 증착 품질과 공정 유연성으로 복잡한 반도체 공정에 대응하며, PVD 기반 고종횡비 구조, 고 증착률, 두꺼운 막 형성 등 차세대 칩 제조에 특화된 기술 경쟁력을 보유하고 있습니다. 또한 디스플레이 및 산업용 응용 분야에서도 기능성 코팅과 맞춤형 엔지니어링 솔루션을 제공합니다.

02

Display

  • Evaporation System & Source
  • Continues Sublimation System
  • Reliability Evaluation System
  • Vacuum Baking System
  • Micro LED Bonding Machine

메타코어는 증착, 평가, 어셈블리 등 디스플레이 전 공정에 걸친 솔루션을 제공하고 있고, 연구용부터 대면적 기판용 시스템까지 다양한 아키텍처로 생산 환경에 최적화된 설계를 지원합니다. 또한 연속기화, 신뢰성 평가, 고진공 표면처리 등 주변 장비 기술을 통합 제공하며, Micro LED 등 차세대 디스플레이 분야에도 신속히 대응하고 있습니다.

03

X-Ray

  • CSI deposition
  • Selenium deposition
  • Electrode sputtering
  • Vacuum aging

X-Ray 센서 및 검출기 제조 분야에서는 CSI, 셀레늄 등 특수 재료의 증착과 전극 스퍼터링, 진공 에이징 시스템을 포함한 공정 솔루션을 보유하고 있습니다. 메타코어는 민감한 박막의 특성을 제어하고 안정된 공정 환경을 구현함으로써, 고해상도 이미지 품질과 장기 신뢰성을 확보할 수 있도록 지원합니다.

04

Aerospace

  • High vacuum chamber system for aerospace

우주 환경을 모사할 수 있는 고진공 챔버 시스템을 개발하여, 위성 추진기나 우주기기 테스트에 필요한 극한 환경 조건을 정밀하게 구현합니다. 진공, 가스 제어, 전원 안정성 등 메타코어의 핵심 기술이 집약된 이 시스템은, 고가의 우주 부품개발에 있어 사전 리스크를 최소화하고 검증 효율을 극대화하는 데 기여하고 있습니다.

Product

미래를 앞서가는
메타코어의 기술력

Wafer PVD
System

메타코어에서는 고품질의 박막증착에 필요한 Wafer PVD System을 제공합니다. Approach-200/300 system은 Wafer 또는 시편 코팅에 적합한 연구개발 및 중소 규모의 생산에 적합한 스퍼터링 시스템으로 광소자, 전력반도체, 다층막 메탈 증착 등 다양한 용도로 사용될 수 있으며, 기존 설비들에 비해 매우 작은 면적의 설치공간으로 구성이 가능합니다.

approach-200 PVD system

wafer
3D Shape Sputtering
System

3D Shape Sputtering system은 다양한 곡면 및 코팅대상의 외측표면만이 아니라 내측까지 균일한 코팅이 가능한 스퍼터링 시스템을 제공합니다. 이 차별화된 코팅방식은 광학, DLC, 내마모성 등의 코팅에 있어 기존 코팅방식의 한계를 뛰어넘을 수 있습니다.

Strato3D-800

3D Coating
Ultra Speed Coating
System

Ultra Speed Coating System은 Oxide, Nitride 등 가스반응을 겸비하는 증착공법에 있어 기존 반응성 증착공정에서 발생하는 단점들을 극복할 수 있는 새로운 증착 방식입니다. 이 방식은 Metal source와 Plasma를 이용하여 매우 빠르면서도 치밀한 코팅막을 형성할 수 있으며, 특히 화학성분이나 고온 등의 열악한 환경에 사용되는 부품의 내구성을 향상하는 코팅용으로 우수한 성능을 제공합니다.

Phoenix-4600

High Speed
Cluster Evaporation
System

Lumina 증착 시스템은 모듈형 클러스터 기반의 맞춤형 장비로, OLED, X-ray 센서, 마이크로 OLED 등 다양한 응용 분야에 최적화된 구성이 가능합니다. 기판 크기, 재료, 공정 조건에 따라 유연하게 설계되며, 고객 요구에 맞춘 설계로 높은 신뢰성과 확장성을 제공합니다. 차세대 디바이스 개발을 위한 창의적이고, 안정적인 솔루션입니다.

Lumina-200

EV Cluster
Continues Evaporation
System

Continues Evaporation System은 Batch 방식의 기화장치에 비해 월등한 설비 가동률의 상승과 연속적인 생산으로 인하여 일정하고 고도화된 품질의 확보 및 생산단가 절감으로 기화시스템에 관한 페러다임의 전환을 불러올 수 있습니다. 메타코어의 CES (연속기화장치)는 고객사의 생산 제품을 더 일정하고 나은 품질과 더불어 더욱 저렴하고 더 빠르게 생산할 수 있는 솔루션을 제공합니다.

CES-30

Evaporatior
Aerospace Evaluation
System

Astro-500은 위성 추진체의 성능을 우주 환경과 동일한 조건에서 정밀하게 평가할 수 있는 최첨단 시스템입니다. 이 장비는 진공 챔버에서 고진공을 형성해 우주 환경을 재현하며, 공정가스와 다양한 전력 공급 조건을 활용해 위성 추진체의 아크와 플라즈마 추진 성능을 테스트합니다. 극미량 공정가스의 제어와 정밀한 파워 공급 기술을 통해, 위성 추진체의 성능과 안정성을 체계적으로 평가할 수 있습니다. 이를 통해 더 신뢰할 수 있는 개발 환경을 제공합니다.

Astro-500

Aerospace

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연구개발 / 장비설계 / 공정개발 / 소프트웨어 / 제조기술 등 전 분야

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